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高纯水制备的典型工艺流程介绍

发布日期:2021-01-19 14:22:52浏览量:101

高纯水(Highpuritywater)是指25℃时电导率小于0.1μs/cm和残余含盐量小于0.3mg/L,并去除了非电介质的微量细菌、微生物、微粒等杂质的水。制备方法有蒸馏、膜分离、离子交换和灭菌。主要用于电子和微电子工业,也用于食品、造纸、医药、电子、核工业等行业。高纯水制备的典型工艺流程如下:

源水→过滤→活性炭过滤器(或有机大孔树脂吸附器)→反渗透器(或电渗析器)→阳离子交换柱→阴离子交换柱→混合离子交换柱→有机物吸附柱→紫外灯杀菌器→精密过滤器→高纯水。

高纯水的制备流程由预处理、脱盐和后处理三部分组成,根据用水的要求,选择合适的工艺组合。

(1)预处理。主要是除去悬浮物、有机物,常用的方法有砂滤、膜过滤、活性炭吸附等。

(2)脱盐。主要是除去各种盐类,常用的方法有电渗析、反渗透、离子交换等。

(3)后处理。主要是除去细菌、微颗粒,常用的方法有紫外杀菌、臭氧杀菌、超过滤、微孔过滤等。

高纯水主要应用在电子和微电子工业上,也用于食品、造纸、医药等行业。随着半导体器件由过去的单电路发展到集成电路,对水质的要求就越来越高。在半导体切片和研磨过程中,须用高纯水进行清洗,即使只有微粒尘埃杂质,也会影响产品质量。

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